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姓 名  谭腾 性 别  男
最高学历  博士研究生 最高学位  理学博士
职 务   职 称  高级工程师
联系方式  0931-4969677 ttan@impcas.ac.cn
所在部门  直线加速器研究室
研究方向  镀膜射频超导腔,功能超导薄膜材料
学习与工作经历

2010年毕业于北京大学物理学专业,获理学学士学位。

2015年毕业于美国天普大学物理专业,获理学博士学位。

2016年至今在中国科学院近代物理研究所工作,任高级工程师。
主要研究成果

1.   射频腔表面镀膜对磁通穿透的屏蔽作用

2.   射频腔表面镀膜对提供射频腔工作长期的效果。
获奖及荣誉 2016西部之光青年学者
承担科研项目

1. 中国科学院前沿科学重点研究项目,QYZDY-SSW-JSC019,面向强流高稳定束流的铜基镀膜腔研究,2016/08-2021/07500万元,在研

2. 中国科学院西部之光青年学者项目,基于HiPIMS的铜基底镀膜技术研究,2017/1-2019/12,15.3万元,在研
代表论文

1. C. Zhuang, T. Tan, A. Krick, Q. Lei, K. Chen and X. X. Xi, MgB2 Thin Films on Metal Substrates for Superconducting RF Cavity Applications. J. Supercond. Nov. Magn. 26, 1563 (2013).

2. T. Tan, C. Zhuang, A. Krick, K. Chen and X. X. Xi, Large-Area MgB2 Films Fabricated by Scaled-Up Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition. IEEE. Trans. Appl. Supercond. 23, 7500304 (2013).

3. T. Tan, M. A. Wolak, N. Acharya, A. Krick, A. C. Lang, J. Sloppy, M. L. Taheri, L. Civale, K. Chen and X. X. Xi, Enhancement of lower critical field by reducing the thickness of epitaxial and polycrystalline MgB2 thin films. APL Materials 3, 041101 (2015).

4. T. Tan, M. A. Wolak, X.X. Xi, T. Tajima, L. Civale, Magnesium diboride coated bulk niobium: a new approach to higher acceleration gradient. Sci. Rep. 6, 35879 (2016)
个人主页 http://people.ucas.edu.cn/~ttan
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